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密閉制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于有機(jī)合成、生物、制藥、食品等各大科研及高校實(shí)驗(yàn)室。有防爆型可供選擇，具有安全、、環(huán)保、方便等特點(diǎn)。能提供熱源或冷源的循環(huán)裝置。工作范圍廣，可用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應(yīng)釜、槽等提供熱源和冷源。
制冷加熱循環(huán)裝置，又稱高低溫一體機(jī)、制冷加熱一體機(jī)，為需冷卻或加熱設(shè)備如反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀等提供高低溫循環(huán)液，通過外循環(huán)的方式為反應(yīng)器皿提供熱源或冷源，達(dá)到反應(yīng)所需條件，控溫精度高。
高低溫循環(huán)裝置一般可以分為風(fēng)冷式和水冷式，從結(jié)構(gòu)來看，高低溫循環(huán)裝置的整個(gè)循環(huán)系統(tǒng)均為密閉無泄露，液體循環(huán)為密閉式系統(tǒng)，可做到低溫時(shí)沒有水汽的吸收，高溫時(shí)沒有油霧的產(chǎn)生，帶有的膨脹容器與液體循環(huán)是絕熱的，并不參與液體循環(huán)。因此在制藥、化工等潔凈要求比較高的領(lǐng)域，高低溫循環(huán)裝置可以發(fā)揮重要的作用。
高低溫循環(huán)裝置在-80℃~250℃溫度段時(shí)一般使用導(dǎo)熱油為導(dǎo)熱介質(zhì)，就可以實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)溫度控制。水冷
高低溫循環(huán)裝置和風(fēng)冷高低溫循環(huán)裝置兩種冷卻方式都是根據(jù)高低溫循環(huán)裝置所處的環(huán)境來選擇的。
密閉制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)應(yīng)用
●化工、制藥和生物領(lǐng)域中雙層及三層反應(yīng)釜的溫度控制。
●材料測(cè)試中的溫度控制。
●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
●工藝過程中的溫度變化模擬控制。
●恒溫控制系統(tǒng)。
●半導(dǎo)體設(shè)備的溫度控制。
●熱測(cè)試平臺(tái)的溫度控制。
●真空室的溫度控制。
